http://www2.tassket.com/ 半導体・ＩＴ・株/投資・環境・中小企業経営などの セミナーガイド、イベント情報などをお届けします。 ja Copyright 2008 Wed, 21 Apr 2010 16:18:08 +0900 http://www.sixapart.com/movabletype/?v=3.21-ja http://blogs.law.harvard.edu/tech/rss タスケットが企画・運営するプライベートセミナーのご案内とお勧めシンポジウム情報、セミナー情報をお届けするサイトです！ タスケットが実施するセミナーは、参加者の皆様が真に役立つセミナーの企画運営を実施します。 また弊社以外のシンポジウム・セミナー・イベント情報もより多くお届けしますので、お気に入りに加えていただきご覧になっていただければ幸いです。 http://www2.tassket.com/2010/04/post.html http://www2.tassket.com/2010/04/post.html 010当セミナーサイトについて Wed, 21 Apr 2010 16:18:08 +0900 ■セミナー題目： 「フォトリソグラフィー材料の技術動向」 ■セミナー概要： 微細加工用レジストについて、実際に研究・製造現場で活躍されているＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）の田中初幸様より、フォトリソグラフィーの材料動向と性能向上と歩留まり向上への取り組みについて、ご講演いただきました。 さらに、リソテックジャパン（株）のレジスト評価装置を用いて、反射防止膜の効果および最適化について、関口様、河野様より解説と観察ガイドの実習セミナーを実施しました。 ]]> http://www2.tassket.com/2008/11/post_7.html http://www2.tassket.com/2008/11/post_7.html 9952008年10月セミナー Fri, 07 Nov 2008 08:22:07 +0900 Ｔ社　Ｇ・Ｎさん ≪セミナーの内容≫ 実習の内容と講義の内容をもう少しＬＩＮＫしてもらいたかった。 Ｎ社　Ｈ・Ｎさん ≪セミナーの内容≫ 実習でＢＡＲＣ有り、無しの有用性を目視で確認できたが、ＳＥＭを利用してパターンの定材波の様子を見れれば良かったと思います。ただしシミュレーションでは、ＢＡＲＣの膜厚と反射率しか会社で測定したことがなかったので、それ以外の測定方法を知れたことは非常に為になりました。 Ｔ社　Ｉ・Ｈさん ≪セミナーの内容≫ 基本的なフォトレジストの説明、実習、そして最後のシミュレーションへの流れが、レジスト初心者でも非常に丁寧、かつ分かり易いと思いまが、ある程度の経験者だと少し物足りないかも･･･｡非常に有意義でした。セミナー開設誠にありがとうございました。 Ｓ社　Ｎ・Ｔさん ≪セミナーの内容≫ 今の私にレベルがあっていた。原理的な内容が多かった。シミュレーションの講義が盛り込んであった。自分の知識の正しさ、誤りを再確認できた。再び仕事に対するモチベーションが上がる良い機会となった。講義、実験共にご丁寧でした。他のメンバーにも受講を薦めたいと思います。お弁当、コーヒーとも美味しく頂きました。 Ｈ社　Ｎ・Ｉさん ≪セミナーの内容≫ レジスト、リソの基本的な話を聞けてよかった。が、こちらの勉強不足の為、いまいち理解に苦しんだ。全く問うい分野（エッチング装置）なので、レジスト＆ＢＡＲＣに関しては、ブラックボックスだったので、勉強できて助かりました。 Ａ社　Ｈ・Ｈさん ≪セミナーの内容≫ リソグラフィーの基礎の部分から最先端の話まで聞けてよかった。 Ａ社　Ｋ・Ｙさん ≪セミナーの内容≫ シミュレーションの内容を確認できたことが参考になりました。 Ｋ社　Ｓ・Ｍさん ≪セミナーの内容≫ リソグラフィーの歴史、現在に至るまでの背景、また現状の問題点が実感できました。実習することで、ウェーハの取り扱い方法、注意点等について参考になるところが多々ありました。 Ａ社　Ｔ・Ｓさん ≪セミナーの内容≫ リソグラフィー材料の技術動向について、大変詳しくお話しして頂けたのが良かったと思います。また最先端の技術動向についてもお話が聞けて、大変良かったと思います。 http://www2.tassket.com/2008/11/post_5.html http://www2.tassket.com/2008/11/post_5.html 9952008年10月セミナー Fri, 07 Nov 2008 08:19:24 +0900 ■セミナー題目： 「リソグラフィー基礎講座」 ■セミナー概要： 当セミナーは、本年４月に研究部門に配属された方や、半導体部門の研究者、エンジニアとして採用された方などビギナーを対象にリソグラフィーの基礎講座と実習がセットになった実践セミナーです。 ]]> http://www2.tassket.com/2008/07/post_6.html http://www2.tassket.com/2008/07/post_6.html 9962008年7月セミナー Wed, 23 Jul 2008 13:40:26 +0900 Ｍ社　Ｍ・Ｋさん ≪セミナーの内容≫ リソの基礎を学ぶにはよいと思う。 実習もあるため、理解度は深まると思う。 Ｄ社　Ｍ・Ｓさん ≪セミナーの内容≫ リソグラフィーの基礎を聞いたことが無く、 分かりやすく説明していただけて良かった。 また実習があったため分かりやすく、講義の内容が 活きたように思います。 実習であったさりげない点ですが、現在測定では行って いなかったので、参考にしたいと思います。 Ｎ社　Ｙ・Ｋさん ≪セミナーの内容≫ 講義と実習でバランスがよかったと思う。 半導体のリソグラフィー工程が良く分かった。 Ｕ社　Ｓ・Ｍさん ≪セミナーの内容≫ 実物のサンプルや機器に実際に触れながらの実習があったので 分かりやすかったです。またこれらのものを扱うのは、初めて だったので良い経験になりました。 Ｋ社　Ｉ・Ｈさん ≪セミナーの内容≫ 基礎講座とあったように非常に分かりやすく聞くことができた。 また実際に塗布・露光・現像と行い、目で確認できたことも非常に 良かった。 Ｓ社　Ｊ・Ｍさん ≪セミナーの内容≫ 実際に作業を行えたことが何より参考になりました。 Ａ社　Ｍ・Ｍさん ≪セミナーの内容≫ リソグラフィーの原理等について 基礎から学ぶことができ、非常に良かった。 http://www2.tassket.com/2008/07/post_4.html http://www2.tassket.com/2008/07/post_4.html 9962008年7月セミナー Wed, 23 Jul 2008 13:39:21 +0900 ■セミナー題目： 「ArFレジストの基礎と光化学反応を目で見てみよう！」 ■セミナーの趣旨： 微細加工用ArFレジストについて、実際に研究現場で活躍されている三菱レイヨン（株）の百瀬様よりArF用ポリマーの種類と特徴、課題等についてご説明を頂き、更に実際のArFレジスト光化学反応のメカニズムをリソテックジャパン�鰍ﾌ関口様、河野様より解説・観察していただくセミナーを企画しました。 当セミナーは、４月、７月に実施したレジストの画像形成体験セミナーの第３弾です。レジストプロセスを担当する研究者、エンジニア方で、入社１〜3年目くらいまでのビギナーを対象に開催いたします。 ]]> http://www2.tassket.com/2008/04/arf.html http://www2.tassket.com/2008/04/arf.html 9972007年11月セミナー Sat, 26 Apr 2008 23:08:15 +0900 ■Ｊ社　Ｔ・Ｎさん ≪セミナーの内容≫ 実験を通じてレジスト素反応を理解することができた。 今までレジストの開発に関わってきたが、反応を段階的に 見ることはなく、今回のセミナーは非常に勉強になった。 ■Ｎ社　Ｔ・Ｅさん ≪セミナーの内容≫ 比較的少人数制のセミナーで丁寧な講義内容でよいと思う。 講義だけでなく実習も体験することができ、理解もより 深まると思う。 ■Ｎ社　Ｔ・Ｉさん ≪セミナーの内容≫ 研究レベルの話が聞けてよかった。 ■Ｏ社　Ｓ・Ｎさん ≪セミナーの内容≫ 基本的なことから特許や最近の取り組みなど、新しいことまで 説明していただき参考になりました。またモノマーを扱っている 立場なので、なかなかレジストを見る機会がありませんでしたが、 実際に見ることができて、仕事に取り組みやすくなりました。 ■Ｓ社　Ｔ・Ｈさん ≪セミナーの内容≫ 実際に会社で活躍されている研究者の方から話が聞けたことが 良かったと思います。 ■Ｕ社　Ｋ・Ｍさん ≪セミナーの内容≫ 実際に行っている実験を見学できて、非常に理解しやすかった。 ■Ｔ社　Ｋ・Ｏさん ≪セミナーの内容≫ Ａｒｆレジスト開発の上で必要な材料やシミュレーションの情報を メーカーの方から直接得ることができた良い機会でした。ただ実験で データ取得するにあたり、248nm波長で行っていましたが、できれば 193nmでの値を見てみたかったです。 ■Ｍ社　Ｍ・Ｓさん ≪セミナーの内容≫ 講師の方の説明や資料が分かりやすく、若干分野外ではあったが、 十分に理解することができた。特に実験まで盛り込まれたセミナーは 初めてで、自分の目で見ることによってイメージが把握できた。 ■Ｆ社　Ｈ・Ｓさん ≪セミナーの内容≫ 内容が基礎的なことで物足りなさを感じたが、小人数であり講師の方と 直接話ができたことは非常に良かった。脱保護解析装置は興味深かった。 ＰＥＢ時の変化が見れるのは非常に良いと思った。 http://www2.tassket.com/2008/04/arf_1.html http://www2.tassket.com/2008/04/arf_1.html 9972007年11月セミナー Thu, 24 Apr 2008 00:33:06 +0900 こちらからお申し込みください。 入金確認後パスワードをお知らせします。 ◆セミナーテキスト_フォトレジスト画像形成(前編) ◆セミナーテキスト_フォトレジスト画像形成(後編) ◆実習テキスト_シミュレーション ※右クリックで「ファイルに保存」を選択してご利用ください。 ■セミナー題目： 「化学増幅レジストの画像形成機能を目で見てみよう！」 ■セミナーの趣旨： 微細加工用フォトレジストはKrF、ArFエキシマレーザー露光に代表される化学増幅レジストに移りつつあります。そこで、化学増幅レジストの画像形成のメカニズムを肉眼で確かめてみたい！というセミナーを企画しました。4月に行った「ノボラックレジストの画像形成機能を目でみてみよう！」の続編です。 レジストプロセスを担当する研究者、エンジニアの方で、入社１〜3年目くらいまでのビギナーを対象に開催いたします。 ]]> http://www2.tassket.com/2008/04/post_2.html http://www2.tassket.com/2008/04/post_2.html 9982007年7月セミナー Wed, 23 Apr 2008 08:41:26 +0900 ■Ｍ社　Ｍ・Ｎさん ≪セミナーの内容≫ 構成が良いと思います。 分析・解析の理論を講義したあと、実際に実験できる というのが素晴らしいと思います。実際に目で確かめ ながらのセミナーというのは今までありませんでした。 ■Ｉ社　Ｔ・Ｆさん ≪セミナーの内容≫ レジストの基礎評価方法について知りたかったので 丁度良かった。測定の実演をしていただけたので、 あやふやなまま分からないところもなかった。 ■Ｔ社　Ｔ・Ｕさん ≪セミナーの内容≫ 実験もあって内容が理解し易かった・ ■Ｎ社　Ｍ・Ｎさん ≪セミナーの内容≫ 実験の時間にいろいろ細かい点を聞くことが出来て 大変良かった。実際装置を使った経験がない人や、 リソグラフィの知識が少ない人には全体を通して 難しいかもしれない。 ■Ｓ社　Ｍ・Ｏさん ≪セミナーの内容≫ 実験も含め具体的な内容でよかった。 また１sessionの時間も適当であった。 人数も6人が限界と思います。 ■Ｎ社　Ｍ・Ｋさん ≪セミナーの内容≫ レジスト画像形成のメカニズムに関して理論式、 具体例を含めて詳細に解説頂き非常に有用な知見と なりました。 特にＰＡＧの反応解析や現像速度解析に関しては、 実際の装置を用いた実習を行っていただき、 リソ材料を扱っている私自身の実務においても 非常に有用でした。 ■Ｒ社　Ｍ・Ｉさん ≪セミナーの内容≫ 露光量とＤＥＢを扱ったときのＰＡＧ分解の様子が 分かった。 ■Ｋ社　Ｒ・Ｎさん ≪セミナーの内容≫ レジストの評価方法について新しい知見を得ることが出来た。 ■Ａ社　Ｈ・Ｓさん ≪セミナーの内容≫ 実際に測定を見せて頂けたので、非常に分かり易かったです。 シュミレーションも今後の参考にさせていただきます。 ■Ｈ社　Ｋ・Ｈさん ≪セミナーの内容≫ とても良いセミナーでした。 ■Ｍ社　Ｏ・Ｋさん ≪セミナーの内容≫ リソグラフィープロセスのメカニズム、 評価の流れが良く説明されていた。 ■Ｈ社　Ｔ・Ｉさん ≪セミナーの内容≫ 装置を用いた実験は非常に参考になった。 講演も基礎からまとめていただき分かり易かった。 http://www2.tassket.com/2008/04/post_3.html http://www2.tassket.com/2008/04/post_3.html 9982007年7月セミナー Tue, 22 Apr 2008 21:33:06 +0900 こちらからお申し込みください。入金確認後パスワードをお知らせします。 ◆セミナーテキスト_ノボラック解析 ◆実習テキスト_シミュレーション ※右クリックで「ファイルに保存」を選択してご利用ください。 ■セミナー題目： 「ノボラックレジストの画像形成機能を目で見てみよう！」 ■セミナーの趣旨： 微細加工用フォトレジストはKrF、ArFエキシマレーザー露光に代表される化学増幅レジストに移りつつあります。しかし、LCD分野などでは微細化に伴い、ノボラックレジストが使われるケースも増えてきました。そこで、改めてノボラックレジストの画像形成のメカニズムを肉眼で確かめてみたい！というセミナーを企画しました。 レジストプロセスを担当する研究者、エンジニア方で、入社１〜3年目くらいまでのビギナーを対象に開催いたします。 ]]> http://www2.tassket.com/2008/04/20070405.html http://www2.tassket.com/2008/04/20070405.html 9992007年4月セミナー Mon, 21 Apr 2008 16:08:38 +0900 ■Ｎ社　Ｋ・Ｉさん ≪セミナーの内容≫ 　　実際の実験、Ｓｉｍを体験でき、非常に有意義なセミナーであった。 ≪日常業務で困っていること≫ 　　実際に実験する機会があまりないため(営業担当のため)、 　　リソの実物に触れることが少ない。 ■Ｆ社　Ｙ・Ｎさん ≪セミナーの内容≫ 　　日頃の業務で知りえなかった内容を知ることが出来た。 　　しかし自分の知識のなさから、質問したくても出来ない部分があった。 ≪日常業務で困っていること≫ 　　レジストを販売しているが、リソグラフィ工程、全ての知識が 　　必要なところ。 ■Ｂ社　Ｋ・Ｋさん ≪セミナーの内容≫ 　　実作業で通じた内容で分かりやすく、非常に興味深い内容でした。 ≪日常業務で困っていること≫ 　　レジスト形状の面内均一性。 ■Ａ社　Ｓ・Ａさん ≪セミナーの内容≫ 　　講義は勉強になった。実験はＦＴ−ＦＲは説得力があったが、 　　ピンと来ない部分も少々あった。 ■Ｒ社　Ｋ・Ｆさん ≪セミナーの内容≫ 　　レジストの講義だけでなく実習も兼ねたセミナーだったので、 　　理解し易かった。特に現像シュミレーションは初めて見たので 　　勉強になった。 ■Ｎ社　Ｏ・Ｎさん ≪セミナーの内容≫ 　　化学変化を実感できる内容で良かった。 　　またパラメータが与えるパターン形状への影響がイメージ 　　できたのが良かった。 ≪日常業務で困っていること≫ 　　形状シュミレーションを想像に頼っているところがあり、 　　条件(各パラメータ)が与えるパターン形状への影響があまり 　　理解できていない所。 ■Ｇ社　Ｓ・Ａさん ≪セミナーの内容≫ 　　シュミレーションについての知識を深めることが出来た。 ■Ｆ社　Ｔ・Ｓさん ≪セミナーの内容≫ 　　具体的に目で見ることが出来たので分かり易かった。 　　計算式と評価結果が一貫していたので理解し易かった。 ≪日常業務で困っていること≫ 　　トレードオフの仕様を、ユーザから依頼されること。 http://www2.tassket.com/2007/07/post_1.html http://www2.tassket.com/2007/07/post_1.html 9992007年4月セミナー Tue, 31 Jul 2007 21:27:19 +0900