化学増幅レジストの画像形成機能実験セミナー
７月５日(木)、７月６日(金)のリソテックジャパン(株)様セミナーは、満員御礼で終了いたしました。ありがとうございました。
尚、今回セミナーで使用したテキストを１セット５，２５０円でご提供しております。ご希望の方は、こちらからお申し込みください。
入金確認後パスワードをお知らせします。
◆セミナーテキスト_フォトレジスト画像形成(前編)
◆セミナーテキスト_フォトレジスト画像形成(後編)
◆実習テキスト_シミュレーション
※右クリックで「ファイルに保存」を選択してご利用ください。
■セミナー題目：
「化学増幅レジストの画像形成機能を目で見てみよう！」
■セミナーの趣旨：
微細加工用フォトレジストはKrF、ArFエキシマレーザー露光に代表される化学増幅レジストに移りつつあります。そこで、化学増幅レジストの画像形成のメカニズムを肉眼で確かめてみたい！というセミナーを企画しました。4月に行った「ノボラックレジストの画像形成機能を目でみてみよう！」の続編です。
レジストプロセスを担当する研究者、エンジニアの方で、入社１〜3年目くらいまでのビギナーを対象に開催いたします。
化学増幅レジスト画像形成機能実験セミナーアンケート
■Ｍ社 Ｍ・Ｎさん
≪セミナーの内容≫
構成が良いと思います。
分析・解析の理論を講義したあと、実際に実験できる
というのが素晴らしいと思います。実際に目で確かめ
ながらのセミナーというのは今までありませんでした。
■Ｉ社 Ｔ・Ｆさん
≪セミナーの内容≫
レジストの基礎評価方法について知りたかったので
丁度良かった。測定の実演をしていただけたので、
あやふやなまま分からないところもなかった。
■Ｔ社 Ｔ・Ｕさん
≪セミナーの内容≫
実験もあって内容が理解し易かった・
■Ｎ社 Ｍ・Ｎさん
≪セミナーの内容≫
実験の時間にいろいろ細かい点を聞くことが出来て
大変良かった。実際装置を使った経験がない人や、
リソグラフィの知識が少ない人には全体を通して
難しいかもしれない。
■Ｓ社 Ｍ・Ｏさん
≪セミナーの内容≫
実験も含め具体的な内容でよかった。
また１sessionの時間も適当であった。
人数も6人が限界と思います。
■Ｎ社 Ｍ・Ｋさん
≪セミナーの内容≫
レジスト画像形成のメカニズムに関して理論式、
具体例を含めて詳細に解説頂き非常に有用な知見と
なりました。
特にＰＡＧの反応解析や現像速度解析に関しては、
実際の装置を用いた実習を行っていただき、
リソ材料を扱っている私自身の実務においても
非常に有用でした。
■Ｒ社 Ｍ・Ｉさん
≪セミナーの内容≫
露光量とＤＥＢを扱ったときのＰＡＧ分解の様子が
分かった。
■Ｋ社 Ｒ・Ｎさん
≪セミナーの内容≫
レジストの評価方法について新しい知見を得ることが出来た。
■Ａ社 Ｈ・Ｓさん
≪セミナーの内容≫
実際に測定を見せて頂けたので、非常に分かり易かったです。
シュミレーションも今後の参考にさせていただきます。
■Ｈ社 Ｋ・Ｈさん
≪セミナーの内容≫
とても良いセミナーでした。
■Ｍ社 Ｏ・Ｋさん
≪セミナーの内容≫
リソグラフィープロセスのメカニズム、
評価の流れが良く説明されていた。
■Ｈ社 Ｔ・Ｉさん
≪セミナーの内容≫
装置を用いた実験は非常に参考になった。
講演も基礎からまとめていただき分かり易かった。