ArFレジストの基礎と光化学反応を目で見てみよう！
11月21日(水)、11月22日(木)のリソテックジャパン(株)様セミナーは、満員御礼で終了いたしました。ありがとうございました。
■セミナー題目：
「ArFレジストの基礎と光化学反応を目で見てみよう！」
■セミナーの趣旨：
微細加工用ArFレジストについて、実際に研究現場で活躍されている三菱レイヨン（株）の百瀬様よりArF用ポリマーの種類と特徴、課題等についてご説明を頂き、更に実際のArFレジスト光化学反応のメカニズムをリソテックジャパン㈱の関口様、河野様より解説・観察していただくセミナーを企画しました。
当セミナーは、４月、７月に実施したレジストの画像形成体験セミナーの第３弾です。レジストプロセスを担当する研究者、エンジニア方で、入社１～3年目くらいまでのビギナーを対象に開催いたします。
ArFレジストの基礎と光化学反応実験セミナーアンケート
■Ｊ社 Ｔ・Ｎさん
≪セミナーの内容≫
実験を通じてレジスト素反応を理解することができた。
今までレジストの開発に関わってきたが、反応を段階的に
見ることはなく、今回のセミナーは非常に勉強になった。
■Ｎ社 Ｔ・Ｅさん
≪セミナーの内容≫
比較的少人数制のセミナーで丁寧な講義内容でよいと思う。
講義だけでなく実習も体験することができ、理解もより
深まると思う。
■Ｎ社 Ｔ・Ｉさん
≪セミナーの内容≫
研究レベルの話が聞けてよかった。
■Ｏ社 Ｓ・Ｎさん
≪セミナーの内容≫
基本的なことから特許や最近の取り組みなど、新しいことまで
説明していただき参考になりました。またモノマーを扱っている
立場なので、なかなかレジストを見る機会がありませんでしたが、
実際に見ることができて、仕事に取り組みやすくなりました。
■Ｓ社 Ｔ・Ｈさん
≪セミナーの内容≫
実際に会社で活躍されている研究者の方から話が聞けたことが
良かったと思います。
■Ｕ社 Ｋ・Ｍさん
≪セミナーの内容≫
実際に行っている実験を見学できて、非常に理解しやすかった。
■Ｔ社 Ｋ・Ｏさん
≪セミナーの内容≫
Ａｒｆレジスト開発の上で必要な材料やシミュレーションの情報を
メーカーの方から直接得ることができた良い機会でした。ただ実験で
データ取得するにあたり、248nm波長で行っていましたが、できれば
193nmでの値を見てみたかったです。
■Ｍ社 Ｍ・Ｓさん
≪セミナーの内容≫
講師の方の説明や資料が分かりやすく、若干分野外ではあったが、
十分に理解することができた。特に実験まで盛り込まれたセミナーは
初めてで、自分の目で見ることによってイメージが把握できた。
■Ｆ社 Ｈ・Ｓさん
≪セミナーの内容≫
内容が基礎的なことで物足りなさを感じたが、小人数であり講師の方と
直接話ができたことは非常に良かった。脱保護解析装置は興味深かった。
ＰＥＢ時の変化が見れるのは非常に良いと思った。