フォトリソグラフィー材料の技術動向講座
１０月２２日(水)、１０月２３日(木)にＡＺエレクトロニックマテリアルズ(株)様と
リソテックジャパン(株)様の合同セミナーは、満員御礼で終了いたしました。
ありがとうございました。
■セミナー題目：
「フォトリソグラフィー材料の技術動向」
■セミナー概要：
微細加工用レジストについて、実際に研究・製造現場で活躍されているＡＺエレクトロニックマテリアルズ（株）の田中初幸様より、フォトリソグラフィーの材料動向と性能向上と歩留まり向上への取り組みについて、ご講演いただきました。
さらに、リソテックジャパン（株）のレジスト評価装置を用いて、反射防止膜の効果および最適化について、関口様、河野様より解説と観察ガイドの実習セミナーを実施しました。