化学増幅レジスト画像形成機能実験セミナーアンケート
■Ｍ社 Ｍ・Ｎさん
≪セミナーの内容≫
構成が良いと思います。
分析・解析の理論を講義したあと、実際に実験できる
というのが素晴らしいと思います。実際に目で確かめ
ながらのセミナーというのは今までありませんでした。
■Ｉ社 Ｔ・Ｆさん
≪セミナーの内容≫
レジストの基礎評価方法について知りたかったので
丁度良かった。測定の実演をしていただけたので、
あやふやなまま分からないところもなかった。
■Ｔ社 Ｔ・Ｕさん
≪セミナーの内容≫
実験もあって内容が理解し易かった・
■Ｎ社 Ｍ・Ｎさん
≪セミナーの内容≫
実験の時間にいろいろ細かい点を聞くことが出来て
大変良かった。実際装置を使った経験がない人や、
リソグラフィの知識が少ない人には全体を通して
難しいかもしれない。
■Ｓ社 Ｍ・Ｏさん
≪セミナーの内容≫
実験も含め具体的な内容でよかった。
また１sessionの時間も適当であった。
人数も6人が限界と思います。
■Ｎ社 Ｍ・Ｋさん
≪セミナーの内容≫
レジスト画像形成のメカニズムに関して理論式、
具体例を含めて詳細に解説頂き非常に有用な知見と
なりました。
特にＰＡＧの反応解析や現像速度解析に関しては、
実際の装置を用いた実習を行っていただき、
リソ材料を扱っている私自身の実務においても
非常に有用でした。
■Ｒ社 Ｍ・Ｉさん
≪セミナーの内容≫
露光量とＤＥＢを扱ったときのＰＡＧ分解の様子が
分かった。
■Ｋ社 Ｒ・Ｎさん
≪セミナーの内容≫
レジストの評価方法について新しい知見を得ることが出来た。
■Ａ社 Ｈ・Ｓさん
≪セミナーの内容≫
実際に測定を見せて頂けたので、非常に分かり易かったです。
シュミレーションも今後の参考にさせていただきます。
■Ｈ社 Ｋ・Ｈさん
≪セミナーの内容≫
とても良いセミナーでした。
■Ｍ社 Ｏ・Ｋさん
≪セミナーの内容≫
リソグラフィープロセスのメカニズム、
評価の流れが良く説明されていた。
■Ｈ社 Ｔ・Ｉさん
≪セミナーの内容≫
装置を用いた実験は非常に参考になった。
講演も基礎からまとめていただき分かり易かった。