化学増幅レジストの画像形成機能実験セミナー
７月５日(木)、７月６日(金)のリソテックジャパン(株)様セミナーは、満員御礼で終了いたしました。ありがとうございました。
尚、今回セミナーで使用したテキストを１セット５，２５０円でご提供しております。ご希望の方は、こちらからお申し込みください。
入金確認後パスワードをお知らせします。
◆セミナーテキスト_フォトレジスト画像形成(前編)
◆セミナーテキスト_フォトレジスト画像形成(後編)
◆実習テキスト_シミュレーション
※右クリックで「ファイルに保存」を選択してご利用ください。
■セミナー題目：
「化学増幅レジストの画像形成機能を目で見てみよう！」
■セミナーの趣旨：
微細加工用フォトレジストはKrF、ArFエキシマレーザー露光に代表される化学増幅レジストに移りつつあります。そこで、化学増幅レジストの画像形成のメカニズムを肉眼で確かめてみたい！というセミナーを企画しました。4月に行った「ノボラックレジストの画像形成機能を目でみてみよう！」の続編です。
レジストプロセスを担当する研究者、エンジニアの方で、入社１～3年目くらいまでのビギナーを対象に開催いたします。
■セミナーの内容：
10:00～12:00 講義「化学増幅レジストの画像形成のメカニズム」
12:00～13:00 昼食
13:00～14:00 光酸発生材の分解を目で見てみよう！
（FT-IRによるPAGの分解の様子を観察）の実習
14:00～15:00 脱保護反応を目で見てみよう！
（FT-IRによる脱保護反応の様子を観察）の実習
15:00～15:15 コーヒーブレイク
15:15～16:15 現像反応を目で見てみよう！
（現像速度測定装置（RDA）による現像反応の測定）の実習
16:15～17:15 画像形成メカニズムのシミュレーション実習
■日程：
7月5日（木）、7月6日（金）
同じ内容のセミナーを行います。
どちらかの日程をお選び頂き、お申し込みください。
1日5名限定（定員になり次第締め切ります。）
■講師略歴：
関口 淳先生
82年芝浦工業大学 応用化学科卒。日本ケミテックにて化学分析に従事。住友GCAにて現像解析装置の研究開発に従事。93年リソテックジャパン㈱設立に参加。現在、取締役執行役員 プロセス開発グループ長。 02年東京電機大学にて工学博士取得。
■セミナー会場：
埼玉県産業技術総合センター
＜住所＞埼玉県川口市上青木３－１２－１８
TEL.048-265-1311
＜最寄り駅＞ JR京浜東北線『西川口』駅下車
＜詳細＞【バス】東口５番乗場
「SKIPシティ循環」乗車
「SKIPシティ」又は「SKIPシティ西」で下車
バス約１０分、下車後徒歩約１分
ＭＡＰ
■セミナー参加費用：
31,500円/一人（税込）
テキスト、昼食、コーヒーブレイク含む
■お申し込み
◎7月5日終了
◎7月6日終了
■お問合せ
タスケット長谷川
・090-3040-7406
・info@tassket.com
※個人情報保護規定
■利用目的
お客様からご提供いただきました個人情報は、セミナー申込み内容のご確認、申込み後の関連書類の発送、当セミナー受講当日に関する情報としてのみ利用致します。
■開示・提供
お客様からご提供いただきました個人情報は、法律上提供しなければならない場合を除き、第三者に提供することはいたしません。
■保護・管理
お客様からご提供いただきました個人情報は、必要以上に保存せず、厳格に管理し、不正アクセス、盗聴、改ざん、漏洩、紛失等のリスクから個人情報を保護するため、可能な技術的保護措置を講じます。