ArFレジストの基礎と光化学反応を目で見てみよう！
11月21日(水)、11月22日(木)のリソテックジャパン(株)様セミナーは、満員御礼で終了いたしました。ありがとうございました。
■セミナー題目：
「ArFレジストの基礎と光化学反応を目で見てみよう！」
■セミナーの趣旨：
微細加工用ArFレジストについて、実際に研究現場で活躍されている三菱レイヨン（株）の百瀬様よりArF用ポリマーの種類と特徴、課題等についてご説明を頂き、更に実際のArFレジスト光化学反応のメカニズムをリソテックジャパン㈱の関口様、河野様より解説・観察していただくセミナーを企画しました。
当セミナーは、４月、７月に実施したレジストの画像形成体験セミナーの第３弾です。レジストプロセスを担当する研究者、エンジニア方で、入社１～3年目くらいまでのビギナーを対象に開催いたします。
■セミナーの内容：
■10:00～12:00【講義：百瀬先生】
・ArF用ポリマーの種類と特徴
・各種アクリル系ポリマーの紹介と課題
・三菱レイヨン(株)の取組み
■12:00～13:00【昼食】
■13:00～14:00【講義：関口先生】
・ArFレジストの画像形成メカニズム
・ArFレジストの脱保護反応の解析方法
■14:00～15:00【実習：河野先生】
・ArFレジストの脱保護反応の観察
■15:00～15:15【コーヒーブレイク】
■15:15～16:30【実習と解説】
・ArFレジストの脱保護反応の観察と解説
■16:30～16:45【質疑応答】
■日程：
11月21日(水)、11月22日(木)
同じ内容のセミナーを行います。
どちらかの日程をお選び頂き、お申し込みください。
1日5名限定（定員になり次第締め切ります。）
■講師略歴：
百瀬 陽(ももせ ひかる)先生
97年名古屋大学大学院工学研究科応用化学専攻修士課程修了。同年三菱レイヨン（株）中央技術研究所配属後、機能樹脂の評価解析業務に従事。99年ごろからArF用ポリマーの評価解析に携わりながらポリマー開発も手掛ける。2001年横浜技術研究所へ異動し本格的に開発業務に従事。現在に至る。
関口 淳先生
82年芝浦工業大学 応用化学科卒。日本ケミテックにて化学分析に従事。住友GCAにて現像解析装置の研究開発に従事。93年リソテックジャパン㈱設立に参加。現在、取締役執行役員 プロセス開発グループ長。 02年東京電機大学にて工学博士取得。
河野 義之先生
82年芝浦工業大学 応用化学科卒。ソフトウェア企業にてソフトウェア開発、技術サポートに従事。
2000年リソテックジャパン(株)に入社。プロセス開発グループにて受託実験、技術サポートに従事。
■セミナー会場：
＜住所＞埼玉県川口市上青木３－１２－１８
TEL.048-265-1311
＜最寄り駅＞ JR京浜東北線『西川口』駅下車
＜詳細＞【バス】東口５番乗場
「SKIPシティ循環」乗車
「SKIPシティ」又は「SKIPシティ西」で下車
バス約１０分、下車後徒歩約１分
ＭＡＰ
■セミナー参加費用：
31,500円/一人（税込）
テキスト、昼食、コーヒーブレイク含む
■お申し込み
◎11月21日終了しました
◎11月22日終了しました
■お問合せ
タスケット長谷川
・090-3040-7406
・info@tassket.com
※個人情報保護規定
■利用目的
お客様からご提供いただきました個人情報は、セミナー申込み内容のご確認、申込み後の関連書類の発送、当セミナー受講当日に関する情報としてのみ利用致します。
■開示・提供
お客様からご提供いただきました個人情報は、法律上提供しなければならない場合を除き、第三者に提供することはいたしません。
■保護・管理
お客様からご提供いただきました個人情報は、必要以上に保存せず、厳格に管理し、不正アクセス、盗聴、改ざん、漏洩、紛失等のリスクから個人情報を保護するため、可能な技術的保護措置を講じます。