タスケット・テクニカル・セミナーガイドへようこそ
来たる平成22年4月27日 (火)と28日 (水)にリソテックジャパン(株)様
主催による下記のようなセミナーを開催いたします。
どうぞ奮ってご参加いただきますよう、宜しくお願い申し上げます。
≪題目≫:
『悠久の光リソグラフィ技術の変遷』
<半導体創世期におけるリソグラフィ技術とレジスト開発の軌跡>
≪セミナーの趣旨≫:
リソグラフィ技術も193nm(ArF)液浸ダブルパターニング技術により、
32nmのパターニングが行われる時代に突入しました。
思えば、25年前、436nm(g線)露光技術により、1μmの壁を破り、
リソグラフィ技術が飛躍的に進歩し始めた頃の事が、夢のように感じ
られます。当時、光の限界は0.5μm(500nm)で、その後、EBリソ
グラフィに移行していくということが、さかんに語られておりましたが
今や、光で30nm以下のパターンが切れる時代です。まさに隔世の
感があります。
その当時、研究の第1線で活躍された諸先生を招き、g線からi線、
KrF、ArFへと進化を遂げたリソグラフィの歴史を振り返る講座を企画
しました。開発当時のご苦労や裏話などを、NHKで放送されたプロジ
ェクトXのように熱くご紹介していただく予定ですので是非、若いリソグ
ラフィ研究者、技術者、営業の方々に、リソグラフィの発展の歴史を
肌で感じて頂き、リソグラフィ技術の変遷の歴史を吸収して頂ければ
と存じます。今回のセミナーは諸先生方とゆっくり懇談出来るように、
1泊のセミナーを企画いたしました。
リソテックジャパン株式会社
プロセス開発グループ
関口 淳
≪日程≫:
2010年4月27日(火)、4月28日(水)
≪セミナーの内容≫:
【4月27日 (火)】
・11:30 ホテルフロントロビーにて受付
・12:00〜13:00 昼食
・13:00〜14:10 【元セミジャパン代表:内田伝之助先生】
演題:「リソグラフィ技術の黎明期-日本のステッパ輸入の歴史とその裏舞台」
・14:10〜15:20 【東京農工大学:中瀬真先生】
演題:「デバイス開発から見たリソグラフィの歴史と発展」
・15:20〜15:40 コーヒーブレイク
・15:40〜16:50 【AZエレクトロニックマテリアルズ(株):田中初幸先生】
演題:「G線レジストの開発の歴史秘話」
・16:50〜18:00 【日産化学工業(株):花畑誠先生】
演題:「I線レジストの開発の歴史秘話」
・18:00〜 ホテルチェックインおよびバスタイム
・19:30〜 懇親会
【4月28日 (水)】
・7:30〜 朝食
・9:00〜10:20 【JSR(株):鴨志田洋一先生】
演題:「X線、DESIRE、エキシマ露光技術の裏街道から表舞台へ」
・10:20〜11:40 【リソテックジャパン(株):関口 淳先生】
演題:「次世代リソグラフィ技術のゆくえ」
・11:40 解散
専用バスで、那須塩原駅までお送りいたします。
≪講師略歴≫:
元セミジャパン代表:内田伝之助先生
・1958年 住友商事入社 東京電機部配属
・1961年〜62年 住友商事ビルマ・ラングーン
(現ミャンマー・ヤンゴン)事務所駐在
・1969年〜78年 住商NY事務所駐在 電子電機担当
・1980年〜87年 住商電子システム(株)設立 社長就任
・1987年〜88年 住商電子電機部長
・1988年〜90年 住友GCA社副社長
・1990年〜94年 ゼネラルシグナルジャパン社長
・1994年〜05年 SEMIジャパン代表
・2007年 SEMIジャパン代表代行として復帰
・2006年以降 SEMI本部特別顧問
東京農工大学:中瀬真先生
1971年、東京芝浦電気(株)(現東芝)入社。
工場技術部を経て同社総合研究所(現研究開発センター)。
1977年より1980年まで日電東芝情報システム(株)へ現職出向。
この間、MOSデバイスプロセス技術、リソグラフィ技術、レジスト
材料技術等の研究開発に従事。
2003年、東芝を退職し、2008年まで(社)電子情報技術産業協会にて
国家プロジェクト等の策定に従事。
千葉大学大学院、東京電機大学工学部を経て、現在は東京農工大学
工学部非常勤講師。工学博士、電気学会IEEJプロフェッショナル。
AZエレクトロニックマテリアルズ(株):田中初幸先生
1979年東京都立大学 理学部化学科卒。
東京応化工業(株)、ヘキストジャパン(株)、クラリアントジャパン(株)を経て
AZエレクトロニックマテリアルズ(株)に勤務。一貫してフォトリソグラフィ
分野向けの材料及びプロセス開発に携わる。現在は同社静岡テクノロジー
センター長。
取扱った製品・開発分野(IC 及び FPD 業界用途)は、リソグラフィー用
フォトレジスト、現像液、剥離液、反射防止膜材料、シュリンク材料、他。
日産化学工業(株):花畑誠先生
1979年 大阪大学大学院工学研究科応用化学専攻修士課程修了。同年 住友
化学工業(株)入社。フォトレジストの開発に従事。1992年工学博士(大阪
大学)。1997年 (株)KRI入社 感光性材料、有機・無機ハイブリッド材料
の研究・開発。2006年 日産化学工業(株)入社 電子材料の開発。現在に至る。
JSR(株):鴨志田洋一先生
1973年4月 日本合成ゴム株式会社(現JSR株式会社)入社。
機能性高分子材料、リソグラフィ材料(フォトレジスト)の研究開発
1987年リソグラフィ材料の事業企画・マーケティング
1991年機能性高分子材料(プラスチック、エラストマー、TPE等)、
リソグラフィ材料(フォトレジスト)の研究開発
1996年研究企画、R&Dグローバルネットワーク構築
1997年4月知的財産部長
2005年6月テクノポリマー鰹勤監査役
1998年〜2001年インターリサーチ社長兼務
1997年〜1999年千葉大学共同研究推進センター客員教授兼務
(先端リソグラフィ材料の研究)
2002年〜2003年東京大学大学院工学系研究科化学生命工学非常勤講師兼務
2009年10月〜現職
リソテックジャパン(株):関口 淳先生
82年芝浦工業大学 応用化学科卒。日本ケミテックにて化学分析に従事。
住友GCAにて現像解析装置の研究開発に従事。93年リソテックジャパン叶ン
立に参加。現在、取締役執行役員 プロセス開発グループ長。 02年東京電
機大学にて工学博士取得。
≪セミナー会場≫:
ホテル・フロラシオン那須
<住所>〒250-0407 栃木県那須郡那須町大字高久丙1796
TEL 0287-76-6333:FAX 0287-76-3487
<最寄り駅>JR東北新幹線・那須塩原駅
≪集合場所:集合時間≫
JR東北新幹線・那須塩原駅西口(新幹線口)にて、
AM 11:00発 の専用バスをご用意しております。
※東京9:40発-那須塩原10:51着 なすの253号が便利です。
≪セミナー参加費用≫:
73,500円/一人(税込)
セミナー費、テキスト、昼食、コーヒーブレイク、宿泊費、懇親会費を含みます。
2名1部屋のツインルームご利用となります。
ツインルームのシングル使用をご希望の場合、+5250円でご利用可能です。
お申し込みの際、ツインルームのシングル使用希望とお書きください。
≪定員≫:
20名
≪お申し込み≫:
1泊2日那須セミナーのお申込みはこちら
≪お問合せ≫:
info@tassket.com
※個人情報保護規定
〈利用目的〉
お客様からご提供いただきました個人情報は、セミナー申込み内容のご確認、
申込み後の関連書類の発送、当セミナー受講当日に関する情報としてのみ利
用致します。
〈開示・提供〉
お客様からご提供いただきました個人情報は、法律上提供しなければならな
い場合を除き、第三者に提供することはいたしません。
〈保護・管理〉
お客様からご提供いただきました個人情報は、必要以上に保存せず、厳格に
管理し、不正アクセス、盗聴、改ざん、漏洩、紛失等のリスクから個人情報
を保護するため、可能な技術的保護措置を講じます。
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