タスケット・テクニカル・セミナーガイドへようこそ
来たる平成２２年４月２７日 （火）と２８日 （水）にリソテックジャパン(株)様
主催による下記のようなセミナーを開催いたします。
どうぞ奮ってご参加いただきますよう、宜しくお願い申し上げます。
≪題目≫：
『悠久の光リソグラフィ技術の変遷』
<半導体創世期におけるリソグラフィ技術とレジスト開発の軌跡>
≪セミナーの趣旨≫：
リソグラフィ技術も193nm(ArF)液浸ダブルパターニング技術により、
32nmのパターニングが行われる時代に突入しました。
思えば、25年前、436nm(g線)露光技術により、1μmの壁を破り、
リソグラフィ技術が飛躍的に進歩し始めた頃の事が、夢のように感じ
られます。当時、光の限界は0.5μm(500nm)で、その後、EBリソ
グラフィに移行していくということが、さかんに語られておりましたが
今や、光で30nm以下のパターンが切れる時代です。まさに隔世の
感があります。
その当時、研究の第1線で活躍された諸先生を招き、g線からi線、
KrF、ArFへと進化を遂げたリソグラフィの歴史を振り返る講座を企画
しました。開発当時のご苦労や裏話などを、NHKで放送されたプロジ
ェクトXのように熱くご紹介していただく予定ですので是非、若いリソグ
ラフィ研究者、技術者、営業の方々に、リソグラフィの発展の歴史を
肌で感じて頂き、リソグラフィ技術の変遷の歴史を吸収して頂ければ
と存じます。今回のセミナーは諸先生方とゆっくり懇談出来るように、
1泊のセミナーを企画いたしました。
リソテックジャパン株式会社
プロセス開発グループ
関口 淳
≪日程≫：
2010年4月27日(火)、4月28日(水)
≪セミナーの内容≫：
【４月２７日 (火)】
・11:30 ホテルフロントロビーにて受付
・12:00～13:00 昼食
・13:00～14:10 【元セミジャパン代表：内田伝之助先生】
演題：「リソグラフィ技術の黎明期-日本のステッパ輸入の歴史とその裏舞台」
・14:10～15：20 【東京農工大学：中瀬真先生】
演題：「デバイス開発から見たリソグラフィの歴史と発展」
・15:20～15:40 コーヒーブレイク
・15:40～16:50 【AZエレクトロニックマテリアルズ(株)：田中初幸先生】
演題：「G線レジストの開発の歴史秘話」
・16:50～18:00 【日産化学工業(株)：花畑誠先生】
演題：「I線レジストの開発の歴史秘話」
・18:00～ ホテルチェックインおよびバスタイム
・19:30～ 懇親会
【４月２８日 (水)】
・7:30～ 朝食
・9:00～10：20 【JSR(株):鴨志田洋一先生】
演題：「X線、DESIRE、エキシマ露光技術の裏街道から表舞台へ」
・10:20～11：40 【リソテックジャパン（株）:関口 淳先生】
演題：「次世代リソグラフィ技術のゆくえ」
・11:40 解散
専用バスで、那須塩原駅までお送りいたします。
≪講師略歴≫：
元セミジャパン代表：内田伝之助先生
・1958年 住友商事入社 東京電機部配属
・1961年～62年 住友商事ビルマ・ラングーン
（現ミャンマー・ヤンゴン）事務所駐在
・1969年～78年 住商ＮＹ事務所駐在 電子電機担当
・1980年～87年 住商電子システム（株）設立 社長就任
・1987年～88年 住商電子電機部長
・1988年～90年 住友ＧＣＡ社副社長
・1990年～94年 ゼネラルシグナルジャパン社長
・1994年～05年 ＳＥＭＩジャパン代表
・2007年 ＳＥＭＩジャパン代表代行として復帰
・2006年以降 ＳＥＭＩ本部特別顧問
東京農工大学：中瀬真先生
1971年、東京芝浦電気（株）（現東芝）入社。
工場技術部を経て同社総合研究所（現研究開発センター）。
1977年より1980年まで日電東芝情報システム（株）へ現職出向。
この間、MOSデバイスプロセス技術、リソグラフィ技術、レジスト
材料技術等の研究開発に従事。
2003年、東芝を退職し、2008年まで（社）電子情報技術産業協会にて
国家プロジェクト等の策定に従事。
千葉大学大学院、東京電機大学工学部を経て、現在は東京農工大学
工学部非常勤講師。工学博士、電気学会IEEJプロフェッショナル。
AZエレクトロニックマテリアルズ(株)：田中初幸先生
1979年東京都立大学 理学部化学科卒。
東京応化工業(株)、ヘキストジャパン(株)、クラリアントジャパン(株)を経て
ＡＺエレクトロニックマテリアルズ(株)に勤務。一貫してフォトリソグラフィ
分野向けの材料及びプロセス開発に携わる。現在は同社静岡テクノロジー
センター長。
取扱った製品・開発分野（IC 及び FPD 業界用途）は、リソグラフィー用
フォトレジスト、現像液、剥離液、反射防止膜材料、シュリンク材料、他。
日産化学工業(株)：花畑誠先生
1979年 大阪大学大学院工学研究科応用化学専攻修士課程修了。同年 住友
化学工業（株）入社。フォトレジストの開発に従事。1992年工学博士（大阪
大学）。1997年 （株）KRI入社 感光性材料、有機・無機ハイブリッド材料
の研究・開発。2006年 日産化学工業(株)入社 電子材料の開発。現在に至る。
JSR(株):鴨志田洋一先生
1973年4月 日本合成ゴム株式会社（現ＪＳＲ株式会社）入社。
機能性高分子材料、リソグラフィ材料（フォトレジスト）の研究開発
1987年リソグラフィ材料の事業企画・マーケティング
1991年機能性高分子材料（プラスチック、エラストマー、ＴＰＥ等）、
リソグラフィ材料（フォトレジスト）の研究開発
1996年研究企画、Ｒ＆Ｄグローバルネットワーク構築
1997年4月知的財産部長
2005年6月テクノポリマー㈱常勤監査役
1998年～2001年インターリサーチ社長兼務
1997年～1999年千葉大学共同研究推進センター客員教授兼務
(先端リソグラフィ材料の研究)
2002年～2003年東京大学大学院工学系研究科化学生命工学非常勤講師兼務
2009年10月～現職
リソテックジャパン（株）:関口 淳先生
82年芝浦工業大学 応用化学科卒。日本ケミテックにて化学分析に従事。
住友GCAにて現像解析装置の研究開発に従事。93年リソテックジャパン㈱設
立に参加。現在、取締役執行役員 プロセス開発グループ長。 02年東京電
機大学にて工学博士取得。
≪セミナー会場≫：
ホテル・フロラシオン那須
＜住所＞〒250-0407 栃木県那須郡那須町大字高久丙1796
TEL 0287-76-6333：FAX 0287-76-3487
＜最寄り駅＞ＪＲ東北新幹線・那須塩原駅
≪集合場所：集合時間≫
ＪＲ東北新幹線・那須塩原駅西口（新幹線口）にて、
AM 11:00発 の専用バスをご用意しております。
※東京9:40発-那須塩原10:51着 なすの253号が便利です。
≪セミナー参加費用≫：
73,500円/一人（税込）
セミナー費、テキスト、昼食、コーヒーブレイク、宿泊費、懇親会費を含みます。
2名1部屋のツインルームご利用となります。
ツインルームのシングル使用をご希望の場合、＋5250円でご利用可能です。
お申し込みの際、ツインルームのシングル使用希望とお書きください。
≪定員≫：
20名
≪お申し込み≫：
1泊2日那須セミナーのお申込みはこちら
≪お問合せ≫：
info@tassket.com
※個人情報保護規定
〈利用目的〉
お客様からご提供いただきました個人情報は、セミナー申込み内容のご確認、
申込み後の関連書類の発送、当セミナー受講当日に関する情報としてのみ利
用致します。
〈開示・提供〉
お客様からご提供いただきました個人情報は、法律上提供しなければならな
い場合を除き、第三者に提供することはいたしません。
〈保護・管理〉
お客様からご提供いただきました個人情報は、必要以上に保存せず、厳格に
管理し、不正アクセス、盗聴、改ざん、漏洩、紛失等のリスクから個人情報
を保護するため、可能な技術的保護措置を講じます。
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