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７月２２日(水)、７月２３日(木)に日産化学工業(株)様とリソテックジャパン(株)様の合同セミナーを実施します。
■セミナー題目：
「ノボラックレジストの基礎とリソグラフィー特性を目で見てみよう！」
■セミナーの趣旨：
微細加工用フォトレジストの主流はKrF、ArFエキシマレーザー露光に代表される化学増幅レジストに移りつつあります。しかし、LCD分野などでは微細化に伴い、ノボラックレジストが使われるケースも増えてきました。そこで、改めてノボラックレジストの基礎と画像形成のメカニズムを確かめてみたい！というセミナーを企画しました。
今回はＬＴＪ関口先生に加え、ノボラックレジスト開発の第一人者である、日産化学工業(株)の花畑誠先生をお招きして、ノボラックレジスト開発の裏側や、レジスト開発の心得などをご講義頂きます。
レジスト材料や、プロセスを担当する研究者、エンジニア方で、入社１～3年目くらいまでのビギナーを対象に開催いたします。
■セミナーの内容：
■10:00～12:00【講義：花畑先生】
・ノボラックレジストの歴史と特徴
・ノボラックレジストの開発のポイント
・レジスト開発の考え方
■12:00～13:00【昼食】
■13:00～14:00【講義：関口先生】
・ノボラックレジストの特徴とシミュレーション
■14:00～15:00【実習：関口先生】
・ノボラックレジストの現像速度測定の実際
■15:00～15:15【コーヒーブレイク】
■15:15～16:30【実習の解説とシミュレーション】
・ノボラックレジストのシミュレーション
■16:30～16:45【質疑応答】
■日程：
7月22日(水)、7月23日(木)
同じ内容のセミナーを行います。
どちらかの日程をお選び頂き、お申し込みください。
1日5名限定（定員になり次第締め切ります。）
■講師略歴：
花畑誠(はなばた まこと)先生
1979年 大阪大学大学院工学研究科応用化学専攻修士課程修了。
同年 住友化学工業（株）入社。フォトレジストの開発に従事。
1992年工学博士（大阪大学）。1997年 （株）KRI入社 感光性材料、有機・無機ハイブリッド材料の研究・開発。2006年 日産化学工業(株)入社 電子材料の開発。現在に至る。
関口 淳先生
82年芝浦工業大学 応用化学科卒。日本ケミテックにて化学分析に従事。住友GCAにて現像解析装置の研究開発に従事。93年リソテックジャパン㈱設立に参加。現在、取締役執行役員 プロセス開発グループ長。 02年東京電機大学にて工学博士取得。
■セミナー会場：
埼玉県産業技術総合センター
＜住所＞埼玉県川口市上青木３－１２－１８
TEL.048-265-1311
＜最寄り駅＞ JR京浜東北線『西川口』駅下車
＜詳細＞【バス】東口５番乗場
「SKIPシティ循環」乗車
「SKIPシティ」又は「SKIPシティ西」で下車
バス約１０分、下車後徒歩約１分
ＭＡＰ
■セミナー参加費用：
33,600円/一人（税込）
テキスト、昼食、コーヒーブレイク含む
■お申し込み
◎7月22日
◎7月23日
■お問合せ
タスケット長谷川
・090-3040-7406
・info@tassket.com
※個人情報保護規定
■利用目的
お客様からご提供いただきました個人情報は、セミナー申込み内容のご確認、申込み後の関連書類の発送、当セミナー受講当日に関する情報としてのみ利用致します。
■開示・提供
お客様からご提供いただきました個人情報は、法律上提供しなければならない場合を除き、第三者に提供することはいたしません。
■保護・管理
お客様からご提供いただきました個人情報は、必要以上に保存せず、厳格に管理し、不正アクセス、盗聴、改ざん、漏洩、紛失等のリスクから個人情報を保護するため、可能な技術的保護措置を講じます。
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